行业知识

涂胶显影机晶圆流程

涂胶显影机是半导体制造中很是主要的装备之一，用于在半导体晶圆外貌涂覆胶液，并举行显影处置惩罚。集束型涂胶显影机厂家将详细先容涂胶显影机晶圆流程，包括涂胶、预曝光、曝光、显影和洗濯等环节。

涂胶是半导体晶圆制造历程中的第一步，主要目的是将特定质料的胶液匀称地涂覆在晶圆外貌，以形成一层；つせ蛲及。涂胶的历程主要包括胶液供应、旋转涂胶和匀称性控制等办法。首先，将胶液通过管道注入涂胶机内的胶液供应系统。胶液供应系统通常由贮胶罐、压力控制阀和胶液分派器等组成，可以确保胶液供应的稳固性和准确性。然后，晶圆被安排在涂胶机的旋转台上，由机械装置控制晶圆的转动速率和偏向。胶液通过旋转台上的分派器匀称地涂覆在晶圆外貌，以抵达预定的厚度和匀称性。

涂胶完成后，晶圆进入预曝光环节。预曝光是为了将胶液中的溶剂挥发掉，提高胶层的粘附性和稳固性。预曝光历程主要包括加热、辅助挥发和废气排放等办法。晶圆被置于加热板上，通过加热板的加热作用，胶液中的溶剂最先挥发。同时，涂胶机内的废气处置惩罚系统最先事情，将挥发出的溶剂排放到大气中，以确保作业情形的清静和清洁。

预曝光后，晶圆进入曝光环节。曝光是将特定的图案通过光照的方法转达到胶液上，形成所需的图案。曝光历程主要包括光源照射、遮罩瞄准和曝光时间控制等办法。在曝光机内，晶圆被置于光源底部，光源通过特定的波长和强度照射到晶圆上。同时，遮罩被安排在光源和晶圆之间，确保只有特定的区域接受到光的照射。曝光时间凭证所需图案的庞洪水平和精度举行控制，以包管图案的准确性和稳固性。

曝光完成后，晶圆进入显影环节。显影是将胶液中未曝光区域的胶质消融掉，袒露出底部的晶圆外貌，形成所需的图案。显影历程主要包括胶液注入、搅拌和显影时间控制等办法。首先，胶液通过注入系统注入到显影槽中，晶圆被安排在显影槽中，胶液与晶圆外貌接触。接下来，显影机内的搅拌装置最先事情，将胶液匀称地搅拌，以加速显影的速率和匀称性。同时，显影时间凭证所需图案的庞洪水平和精度举行控制，以确保显影的准确性和稳固性。显影完成后，晶圆被取出，举行后续的处置惩罚。

最后，晶圆经由显影后，会有一些胶液残留在晶圆外貌，需要举行洗濯。洗濯环节主要包括溶剂洗濯、干燥和检查等办法。首先，将晶圆置于洗濯槽中，通过注入溶剂的方法洗濯晶圆外貌的胶液残留物。然后，将晶圆置于干燥装置中，通过加热和吹风的方法将晶圆外貌的溶剂挥发掉，使晶圆外貌干燥。最后，对晶圆举行目视检查，确保晶圆外貌没有残留的胶液或污染物。

综上所述，涂胶显影机晶圆流程包括涂胶、预曝光、曝光、显影和洗濯等环节。每个环节都有特定的办法和装备，通过准确的控制和操作，可以实现胶液的匀称涂覆、图案的准确形成和晶圆的高质量加工，是半导体制造中不可或缺的要害办法。