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湿法去胶机的手艺配景

去胶工艺是半导体行业必不可少的工艺流程
，去胶的目的是快速有用的去胶而不影响下面的各层质料
。良久以前
，去胶装备手艺落伍、体积重大、铺张洗濯剂且洗濯不到位
，在洗濯历程中喷洒不匀称还会对其他零部件造成损坏
。针对现有手艺的缺乏
，湿法去胶机的泛起
，解决了这个问题
。不但提供了自动单片湿法去胶机
，并且也解决了现有去胶机对晶圆时去胶效率慢、去胶周全性缺乏
，且还需要多次返工去胶
，进一步影响事情职员事情效率的问题
。

晶圆片加工历程中
，蚀刻后在晶圆上经常存留剩余的胶体
，这时经常通过浸泡的方法将晶圆片上胶体去除
。在湿法浸泡去胶的历程中
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，因此需要对浸泡晶圆片的浸泡池举行密封
，同时需要在浸泡装备中添加抽气结构
。针对以上问题
，湿法去胶机可以快速取换晶圆片的晶圆湿法浸液式去胶机
。

湿法去胶机的手艺原理主要是使用溶剂对胶接层举行消融和洗濯
，从而抵达去除胶接层的目的
。湿法去胶机通常接纳有机溶剂作为洗濯介质
，这些溶剂能够有用地消融和去除种种类型的胶接层
，如环氧树脂、聚氨酯、丙烯酸等
。

湿法去胶机的事情历程一样平常包括以下几个办法：

1. 将待处置惩罚的工件放入去胶机的洗濯槽中
。

2. 向洗濯槽中注入适量的溶剂
，使溶剂能够充分浸泡工件
。

3. 启动去胶机的搅拌装置
，使溶剂在洗濯槽中循环流动
，以增强洗濯效果
。

4. 控制洗濯时间和温度
，让溶剂与胶接层充分作用
，抵达去除胶接层的目的
。

5. 洗濯完成后
，将工件取出
，用清水冲洗清洁
，以去除残留的溶剂和污染物
。

6. 然后
，将工件举行干燥处置惩罚
，以确保其外貌干燥
。

需要注重的是
，湿法去胶机在使用历程中需要注重清静
，阻止溶剂接触皮肤和眼睛
，同时要做好透风步伐
，以避免溶剂挥发爆发的有害气体对人体造成危险
。别的
，差别类型的胶接层需要选择差别的溶剂举行洗濯
，不然可能会导致洗濯效果欠好或者对工件造成损害
。